MBE生长的HgCdTe材料B离子注入特性研究
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TN213 TN304.26

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国家自然科学基金


A STUDY OF ELECTRICAL CHARACTERISTICS FOR BORON IMPLANTATION OF MBE GROWN HgCdTe
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    用剥层霍耳测量分析了MBE生长HgCdTe薄膜的B离子注入的电学特性,测量了薄膜材料的载流子浓度和迁移率分布.当剥层腐蚀到结区,结区增透引起红外透射光谱的峰值提高.

    Abstract:

    The electrical property of boron implantation of MBE grown HgCdTe and the profile of carrier concentration and mobility measured by sheet Hall were presented. After etching the epilayer to p n junction position, the transmittance of this position was raised, which was ascribed to the high transmission of junction region.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

黄根生 姬荣斌. MBE生长的HgCdTe材料B离子注入特性研究[J].红外与毫米波学报,1999,18(1):19~22]. HUANG Gen Sheng JI Rong Bin FANG Wei Zheng YANG Jian Rong CHEN Xin Qiang HE Li. A STUDY OF ELECTRICAL CHARACTERISTICS FOR BORON IMPLANTATION OF MBE GROWN HgCdTe[J]. J. Infrared Millim. Waves,1999,18(1):19~22.]

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