外延迁移技术制作光电子单片集成Si的GaAs/GaAlAs DH LED
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EPITAXIAL LIFT-OFF GaAs/GaAlAs DH LEDs ON Si FOR OEIC
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    描述了采用外延迁移技术制作光电子集成电路的Si衬底砷化镓双异质结发光二极管的工艺过程及实验结果.发光器件是在外延迁移后流片制作的,克服了光子器件与电子器件的对准问题,可与电子器件大规模集成.

    Abstract:

    The successful integration of GaAs LEDs on Si for fabrication of opto-electron- ic integrated circuits (OEIC) using the epitaxial lift-off technique is firstly reported in China. LEDs were fully processed after ELO transfer and can be integrated with large scale electronic circuits.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

肖德元,郭康瑾,李爱珍,徐少华,朱黎明.外延迁移技术制作光电子单片集成Si的GaAs/GaAlAs DH LED[J].红外与毫米波学报,1992,11(5):]. Xiao Deyuan, Guo Kangjin, Li Aizhen, Xu Shaohua, Zhu Liming. EPITAXIAL LIFT-OFF GaAs/GaAlAs DH LEDs ON Si FOR OEIC[J]. J. Infrared Millim. Waves,1992,11(5).]

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