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阱内δ掺杂GaSbBi单量子阱红外发光效率的光致发光光谱研究  PDF

  • 马楠 1
  • 窦程 2
  • 王嫚 1
  • 朱亮清 2
  • 陈熙仁 2
  • 刘锋 1
  • 邵军 2
1. 上海师范大学 数理学院,上海 200234; 2. 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室,上海 200083

最近更新:2022-02-28

DOI:10.11972/j.issn.1001-9014.2022.01.028

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摘要

采用变激发功率红外光致发光(Photoluminescence, PL)光谱方法研究四个不同阱内δ掺杂面密度的GaSb0.93Bi0.07/GaSb单量子阱(Single Quantum Well, SQW)及其非掺杂SQW参考样品。通过分析GaSbBi SQW和GaSb势垒/衬底成分的PL强度演化,发现阱内δ掺杂导致红外辐射效率显著降低,相对下降幅度约为33%-75%。进一步分析结果表明,发光效率下降来源于界面恶化引发的“电子损失”和阱内晶格质量下降导致的“光子损失”的共同作用。这一工作有望为稀Bi红外发光器件的性能优化提供帮助。

引言

III-V-Bi半导体作为一种新型的材料体系,在红外发光和光电探测应用方面颇具潜

1-5。国际上多个课题组已经报道了基于稀Bi半导体的红外LED和激光二极6-8。从能带角度,等电位Bi的掺入在III-V材料的价带中形成共振能级,与价带顶形成带反交叉相互作9-10,从而推动价带顶的上升和禁带宽度的收11-15,同时引发辐射波长的温度敏感性下16和自旋轨道分裂能增17。这为半导体能带工程、红外光电应用乃至自旋量子发展提供了新的机会。

其中GaSbBi因其较窄的禁带宽度,被认为是实现2~4 μm高性能红外发光器件的重要材

18。类似于InGaAs/GaAs单量子阱(Single Quantum Well, SQW19,在GaSbBi SQW内进行δ掺杂,形成由自由载流子和离子化掺杂物的静电场导致的近δ电势,将载流子限制在二维掺杂薄层附近,有望进一步延长发光波1820-21。尽管如此,GaSbBi SQW δ掺杂面密度对发光效率的影响还有待研究,最优的掺杂面密度还有待探寻。尤其是考虑到GaSbBi SQW中存在台阶状界面结构,有可能导致发光波长偏移和非均匀展22。光致发光(Photoluminescence, PL)光谱是研究半导体发光特性的经典手23,具有非破坏、高灵敏等优势。PL基本过程是:价带中的电子被泵浦至高能的导带,弛豫至导带边再经过辐射复合或者非辐射复合回到价带。通过分析辐射复合过程所发出的光子能量分布,便可揭示半导体的能带结构和光学特性等性质。

本工作利用激发功率依赖的PL光谱研究不同阱内δ掺杂面密度GaSbBi/GaSb SQW的红外发光特性,发现δ掺杂显著降低SQW的发光效率,其原因主要来自界面恶化引发的“电子损失”和阱内晶格质量下降导致的“光子损失”的共同作用,导致有效的红外辐射光子大幅度损失。这一结果揭示了δ掺杂对发光效率影响的机制,为GaSbBi基高性能红外辐射器件制造和性能优化提供参考。

1 实验细节

四个不同δ掺杂面密度的GaSbBi/GaSb SQW和四个对应非掺杂参考样品均由分子束外延(Molecular Beam Epitaxy, MBE)制备于GaSb衬底上。所有SQW的Bi组分均约为7.0%,阱宽8 nm。阱内δ掺杂步骤如下:在GaSbBi量子阱生长到一半厚度时,停顿不同的时间段并在此期间注入相同Te气

18。通过保持稳定Te蒸发流量和改变中断时间,可以实现掺杂面密度的调控。δ掺杂面密度由霍尔测量校准,见表1。在关闭Te蒸发流量的前提下采用相同的步骤,为每一个δ掺杂GaSbBi量子阱分别生长了参考样品,以此准确有效地说明δ掺杂面密度所带来的影响。

表1 δ掺杂GaSbBi SQW的面密度
Table 1 Sheet densities of δ-doped GaSbBi SQW
组别1234
Te掺杂面密度(×1012 cm-2 1.14 2.28 3.42 4.56

本工作的掺杂面密度范围为(1.14~4.56)×1012 cm-2,最大值为最小值的4倍。简单估算,转换成等效的体浓度范围为1×1018~1×1019 cm-3,在重掺杂范围内浓度变化为1个数量级。这与已有文献[

24-25]所报道的重掺杂GaSb浓度变化范围相当。更高的掺杂浓度难以保证晶格结构的稳定性,将引入额外的因素降低样品的光学质量;而生长过程中过短的停顿时间将导致更低掺杂浓度样品的有效掺杂面密度存在很大的涨落误差,不利于浓度的可靠掌控。

PL光谱测试是在多可变条件宽波段红外调制PL光谱实验系统上完成的,系统中的傅里叶变换红外(Fourier Transform Infrared, FTIR)光谱仪以快速扫描模式运行。具体测试细节见文献[

26-29]。采用CaF2分束器和InSb探测器配置便可覆盖GaSbBi SQW的有效发光波段。光谱的分辨率设定为16 cm-1,所用泵浦激光波长532 nm,其输出功率由激光功率控制器控制。变温PL光谱测试过程中,功率设置为100 mW。变激发功率PL光谱测试时,样品置于光学杜瓦中由液氮制冷至77 K。

2 结果与分析

变温PL光谱如图1所示,在能量高于0.7 eV区域中,低能量的PL光谱峰在低温下很强而在高温下很弱,其强度随温度的淬灭要比高能峰快得多,这是因为低温下光生载流子主要被低能态俘获而高温下则被热离化至高能态

28。更重要的是,可以看到PL光谱的极小值也随温度显著变化,由于稀Bi半导体的折射率对温度并不敏30,即该范围内的特征峰与等厚干涉无关。

图1 掺杂面密度为1.14×1012 cm-2的SQW变温PL光谱

Fig. 1 Variable temperature PL spectrum of GaSbBi SQW with a sheet density of 1.14×1012 cm-2

图2显示了100 mW激发功率下不同掺杂面密度SQW和GaSb衬底的PL光谱。作为体材料的GaSb衬底在高于0.7 eV范围也表现出相似的PL光谱线型,说明PL线型来自GaSb本身而非干涉。而SQW样品的PL能量比衬底的略高,可能是由于GaSbBi晶格常数较大,对其邻近的GaSb产生一定的压应

31。通过对比,具有掺杂的SQW的发光主要包含SQW和来自GaSb势垒/衬底这两部1832,前者能量低于0.7 eV,表现为弱的近似单峰结构;后者能量高于0.7 eV,表现为多个PL光谱特征峰,主要是由于GaSb的浅能级缺陷所导致。随着掺杂面密度的增加,SQW的特征峰先出现红移;当面密度超过3.42×1012 cm-2,增大掺杂将使PL蓝移,可能是因为高掺杂导致的Burstein-Moss效应超过了δ电势效33

图2 不同掺杂面密度GaSbBi SQW样品和衬底的100 mW激发PL光谱

Fig. 2 100 mW PL spectra of GaSbBi SQW samples and Substrates with different sheet densities

其中在能量低于0.7 eV范围内,发光峰很宽,不同掺杂面密度的GaSbBi SQW及其相应参考样品在该范围内的PL半高宽列于表2中。以GaSbBi体材料的Bi致带隙收缩率约30 meV/%Bi

34估算,四个δ掺杂GaSbBi SQW的Bi组分涨落分别为+/-1.3%、+/-1.4%、+/-1.5%和+/-1.4%,所对应四个参考样品组分涨落分别为+/-1.1%、+/-1.0%、+/-1.1%和+/-1.0%。从Bi组分涨落的相对差异来看,样品间的组分涨落差异很小。

表2 不同面密度GaSbBi SQW 及其相应参考样品Ⅰ区特征峰的半高宽
Table 2 FWHMs of zone I for the GaSbBi SQWs with different areal densities and the references as well
组别1234
样品 GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW
(1.14×1012 cm-2 (2.28×1012 cm-2 (3.42×1012 cm-2 (4.56×1012 cm-2 (4.56×1012 cm-2
宽度(meV) 76 63 83 57 87 66 82 60

图3代表性地显示了面密度1.14×1012 cm-2 的SQW及其参考样品的激发功率依赖PL光谱。显然,随着激发功率的增大,SQW和GaSb势垒/衬底的PL强度都相应增强。为便于描述,我们将与GaSbBi SQW相关的PL波段标记为Ⅰ区,而将与GaSb势垒/衬底相关的标记为II区。

图3 掺杂面密度为1.14×1012 cm-2的GaSbBi SQW和其参考样品的变激发功率PL谱。插图为掺杂样品Ⅰ区特征峰的放大

Fig. 3 Power-dependent PL spectra of GaSbBi SQW with a sheet density of 1.14×1012 cm-2 and the reference. Inset: Enlargement for the region I of the doped sample

为定量分析δ掺杂对GaSbBi SQW红外发光效率的影响,将I区PL强度进行积分,并与激发功率关联,结果如图4所示。可见,对于所有样品,I区PL积分强度与激发功率成近线性关系。考虑到发光效率为辐射功率与激发功率的比

35,在线性关系前提下,积分强度-激发功率关系的斜率正比于材料的发光效率。因此通过线性拟合分析δ掺杂面密度导致斜率的相对变化,是有效途径,拟合所得斜率列于表3。结果表明,对于不同掺杂面密度的GaSbBi SQW,掺杂都导致了斜率降低,意味着发光效率的下降。对掺杂密度1.14×1012、2.28×1012、3.42×1012和4.56×1012 cm-2的SQW,δ掺杂导致发光效率分别相对下降67%、75%、33%和75%,如图5(a)所示。

图4 不同面密度GaSbBi SQW和其参考样品Ⅰ区PL的变激发功率积分强度,掺杂面密度分别为(a)1.14×1012 cm-2, (b)2.28×1012 cm-2, (c)3.42×1012 cm-2, 和(d)4.56×1012 cm-2

Fig. 4 Excitation power-dependent PL integral intensity in region I for GaSbBi SQW samples with different sheet densities and the references. Sheet density: (a) 1.14×1012 cm-2, (b) 2.28×1012 cm-2,(c) 3.42×1012 cm-2, and (d) 4.56×1012 cm-2

表3 Ⅰ区特征峰积分强度拟合斜率
Table 3 Fitting slopes for PL integral intensity in region I
组别1234
样品 GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW
(1.14×1012 cm-2 (2.28×1012 cm-2 (3.42×1012 cm-2 (4.56×1012 cm-2
斜率(mW-1 0.02 0.06 0.01 0.04 0.02 0.03 0.01 0.04

图5 Ⅰ区(a)和Ⅱ区(b)发光效率的相对降低

Fig. 5 Relative reduction of emission efficiency in region Ⅰ (a) and Ⅱ (b)

PL过程中两种机制可能导致发光效率的下降:(i)掺杂导致界面质量恶化,光生载流子受到SQW的界面散射,有效注入SQW的数量降低,如图6(a)所示,点划线表示光生电子在注入SQW过程中遭到损失,发光效率降低原因是“电子损失”;(ii)掺杂导致GaSbBi晶格质量下降,注入到SQW的光生载流子通过非辐射复合而非辐射复合跃迁,从而降低发光效率,属于“光子损失”过程,如图6(b)所示。

图6 电子跃迁和复合过程示意图

Fig. 6 The schematic diagram of electronic transition and recombination process

为厘清这两种机制,对与GaSb势垒/衬底相关的II区PL积分强度进行分析。其与激发功率关系如图7所示。显然,对不同掺杂面密度的样品,积分强度-激发功率斜率均相对于参考样品略有下降。线性拟合所提取的斜率数值列于表4。对于II区PL积分强度,掺杂密度1.14×1012、2.28×1012、3.42×1012和4.56×1012 cm-2样品的发光效率分别相对下降48%、62%、40%和65%,如图5(b)所示。除第3组样品外,这些相对下降率比相应I区的低,由此可见:(i) SQW界面散射导致“电子损失”机制占非主导地位,因为电子滞留于GaSb势垒/衬底,II区的发光效率会相应增强;(ii)“电子损失”对δ掺杂导致发光效率下降有作用,从而使II区相对下降率比I区的低。

图7 Ⅱ区PL积分强度的激发功率演化,面密度分别为(a)1.14×1012 cm-2,(b)2.28×1012 cm-2,(c)3.42×1012 cm-2,和(d)4.56×1012 cm-2

Fig. 7 Excitation power-dependent PL integral intensity in region II, sheet density: (a) 1.14×1012 cm-2,(b) 2.28×1012 cm-2 (c) 3.42×1012 cm-2, and (d) 4.56×1012 cm-2

表4 II区特征峰积分强度拟合斜率
Table 4 Fitting slopes for PL integral intensity in region II
组别1234
样品 GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW GaSbBi QW Te GaSbBi QW
(1.14×1012 cm-2 (2.28×1012 cm-2 (3.42×1012 cm-2 (4.56×1012 cm-2
斜率(mW-1 0.34 0.65 0.23 0.61 0.25 0.42 0.19 0.55

更进一步的GaSbBi SQW PL峰值能量随激发功率的演化关系如图8所示,支持“光子损失”是阱内δ掺杂导致SQW发光效率的另一重要原因。在20~240 mW的激发功率增强过程中,所有SQW的PL能量均蓝移,蓝移的原因来自于带尾态的填充效

36。显然相比于参考样品仅蓝移4~6 meV,掺杂密度为1.14×1012、2.28×1012、3.42×1012和4.56×1012 cm-2的SQW样品分别蓝移10、35、37和39 meV,意味着后者的晶格无序度和带尾态更为显著。

图8 不同掺杂面密度SQW及其参考样品Ⅰ区特征峰能量与激发功率的关系,面密度分别为(a)1.14×1012 cm-2,(b)2.28×1012 cm-2,(c)3.42×1012 cm-2, 和(d)4.56×1012 cm-2

Fig. 8 PL peak energy vs excitation power for GaSbBi SQWs with different sheet density and the references. Sheet density: (a) 1.14×1012 cm-2, (b) 2.28×1012 cm-2 (c) 3.42×1012 cm-2, and (d) 4.56×1012 cm-2

3 结论

综上所述,对不同阱内δ掺杂面密度GaSb0.93Bi0.07 SQW及其非掺杂参考样品的激发功率依赖PL光谱研究的结果表明,GaSbBi SQW的阱内δ掺杂导致红外PL发光效率显著降低,相对下降幅度约为33%-75%。发光效率下降可归因于界面恶化引发的“电子损失”和阱内晶格质量下降导致的“光子损失”的共同效应。这一结果可望为稀Bi红外发光器件的性能优化提供帮助。

4 致谢

衷心感谢中国科学院上海微系统与信息技术研究所王庶民研究员为本工作提供的GaSbBi QWs系列样品。

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