外延电阻对深亚微米MOSFET噪声性能的影响
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作者单位:

上海交通大学 集成电路学院/信息与电子工程学院 模拟射频集成电路设计中心,上海200240

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基金项目:


Effect of extrinsic resistance on noise performance for deep submicron MOSFET
Author:
Affiliation:

School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China

Fund Project:

Supported by the National Key R&D Program of China (2020YFB1807301)

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    摘要:

    本文采用噪声相关矩阵法,研究了外电路电阻对深亚微米 MOSFET噪声性能的影响。基于小信号等效电路模型和噪声等效电路模型,推导得到了四个噪声参数的解析闭合表达式。对于栅长40 nm、尺寸为 4×5 μm(栅指数量 × 单位栅宽)的 MOSFET,仿真结果与实验数据表现出良好的一致性。

    Abstract:

    This paper investigates the impact of extrinsic resistance on the noise performance of deep submicron MOSFETs (metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor) using the noise correlation matrix method. Analytical closed-form expressions for calculating the four noise parameters are derived based on the small-signal and noise-equivalent circuit models. The results show strong agreement between simulated and experimental data for MOSFETs with a gate length of 40 nm and dimensions of 4×5 μm (number of gate fingers × unit gate width.

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  • 收稿日期:2024-12-23
  • 最后修改日期:2025-11-25
  • 录用日期:2025-02-13
  • 在线发布日期: 2025-12-02
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