p型碲镉汞液相外延材料Ag掺杂的研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TN213

基金项目:

国家自然科学基金 (批准号 6942 5 0 0 2 )资助项目~~


Ag DOPING OF p-TYPE HgCdTe GROWN BY LPE
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    利用SIMS和变温霍尔测量手段对P型Hg0.77Gd0.23Te液相外延材料的Ag掺杂技术、机理及掺杂碲镉汞材料的性能进行了研究。结果表明采用AgNO3溶液直接浸泡方式对该材料进行掺Ag是成功的,掺杂浓度与被掺杂材料中的汞空位浓度是一致的,掺杂后,P型碲镉汞材料的受主能级比掺杂前有明显的减小,从实验结果可看到掺Ag碲镉汞材料的电学性能在室温下保持稳定。

    Abstract:

    SIMS (secondary ion mass spectrum) and variable temperature Hall measurement were employed to study the doping of Ag and the electrical properties of Ag doped HgCdTe films grown by LPE. The results show that the Ag doping in HgCdTe by soaking HgCdTe in AgNO 3 solution is effective and the dopant concentration is equal to the Hg vacancy concentration of undoped HgCdTe film. After Ag doping, the acceptor energy of p type HgCdTe has an obvious decrease. It was also found that the electrical properties of Ag doped HgCdTe films can keep stable at room temperature.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

俞谦荣 杨建荣 等. p型碲镉汞液相外延材料Ag掺杂的研究[J].红外与毫米波学报,2002,21(2):91~94]. YU Qian Rong ) YANG Jian Rong ) HUANG Gen Sheng ) CHEN Xin Qiang ) XIA Yi Ben ) HE Li ). Ag DOPING OF p-TYPE HgCdTe GROWN BY LPE[J]. J. Infrared Millim. Waves,2002,21(2):91~94.]

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2001-04-04
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码