TN215
国家科技攻关项目，，
通过考虑互相关联的光学和工艺参数,设计了3～5μm红外128×128硅衍射微透镜阵列.阵列中微透镜的孔径为50μm,透镜F数为f/2.5,微透镜阵列的中心距为50μm.采用多次光刻和离子束刻蚀技术在硅衬底表面制备衍射微透镜阵列.对实际的工艺过程和制备方法进行了讨论,对制备出的128×128硅衍射微透镜阵列的光学性能和表面浮雕结构进行了测量.
李毅,易新建,陈思乡.128×128PtSi红外焦平耐用硅衍射微镜阵列的设计与制备[J].红外与毫米波学报,2000,19(3):197~200]. LI Yi, YI Xing-Jian, CHEN Si-Xiang.[J]. J. Infrared Millim. Waves,2000,19(3):197~200.]
