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碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系
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TN304.25 TN305.055

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DEPENDENCE OF ADHESION OF FILMS OF TELLURIDE UPON ITS MI CROSTRUCTURE
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    摘要:

    用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）和透射电镜术（ＴＥＭ）观察Ｓｉ和Ｇｅ基板上ＰｂＴｅ、ＣｄＴｅ及ＰｂＧｅＴｅ单层薄膜及其与ＺｎＳ组合的多层薄膜的显微结构，给出了薄膜附着牢固度与薄膜显微结构的关系

    Abstract:

    Microstructures of single layer of telluride and telluride/ZnS multilayer on Si and Ge substrates were investigated by XRD and TEM. The correlation between adhesion and microstructure of layers was given.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

张素英 程实平.碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系[J].红外与毫米波学报,1999,18(4):327~331]. ZHANG Su-Ying, FAN Bin, CHENG Shi-Ping, LIN Jie-Hua, ZHOU Shi-Yao, WANG Ge-Ya, SHI Tian-Shen. DEPENDENCE OF ADHESION OF FILMS OF TELLURIDE UPON ITS MI CROSTRUCTURE[J]. J. Infrared Millim. Waves,1999,18(4):327~331.]

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