MBE生长的HgCdTe材料B离子注入特性研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TN213 TN304.26

基金项目:

国家自然科学基金


A STUDY OF ELECTRICAL CHARACTERISTICS FOR BORON IMPLANTATION OF MBE GROWN HgCdTe
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    用剥层霍耳测量分析了MBE生长HgCdTe薄膜的B离子注入的电学特性,测量了薄膜材料的载流子浓度和迁移率分布.当剥层腐蚀到结区,结区增透引起红外透射光谱的峰值提高.

    Abstract:

    The electrical property of boron implantation of MBE grown HgCdTe and the profile of carrier concentration and mobility measured by sheet Hall were presented. After etching the epilayer to p n junction position, the transmittance of this position was raised, which was ascribed to the high transmission of junction region.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

黄根生 姬荣斌. MBE生长的HgCdTe材料B离子注入特性研究[J].红外与毫米波学报,1999,18(1):19~22]. HUANG Gen Sheng JI Rong Bin FANG Wei Zheng YANG Jian Rong CHEN Xin Qiang HE Li. A STUDY OF ELECTRICAL CHARACTERISTICS FOR BORON IMPLANTATION OF MBE GROWN HgCdTe[J]. J. Infrared Millim. Waves,1999,18(1):19~22.]

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码