用涂碳石英管生长碲化物晶体的工艺分析
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TN304.25 TN304.05

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SPECTROSCOPIC STUDY OF CARBON FILM USED FOR GROWING OF TELLURIDE CRYSTALS
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    用经内壁涂碳膜的石英坩埚生长PbTe,CdTe和HgCdTe等的Ⅱ~Ⅳ族和Ⅳ~Ⅵ族化合物晶体,由X射线光电子能谱仪(XPS),原子吸收光谱和高频红外碳硫分析技术分析了多组涂碳和未涂碳、用和未用长晶的石英管内壁及相应的晶体表面,结果表明牢固的碳膜不会对生长晶体引进明显的碳沾污,可以避免石英同生长晶体的粘连.

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引用本文

张素英 刘普霖.用涂碳石英管生长碲化物晶体的工艺分析[J].红外与毫米波学报,1997,16(4):261~265]. Zhang Suying Liu Pulin Shen Jie. SPECTROSCOPIC STUDY OF CARBON FILM USED FOR GROWING OF TELLURIDE CRYSTALS[J]. J. Infrared Millim. Waves,1997,16(4):261~265.]

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