硅单晶中氮-氧复合体的红外吸收研究
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O734

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INFRARED ABSORPTION STUDY OF NITROGEN-OXYGEN COMPLEX IN SILICON
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    摘要:

    对不同条件下含氮和不含氮的硅单晶,在300K和8K下进行红外吸收研究.实验结果表明:含氮硅单晶和氮一氧复合体相关的红外吸收峰为1030cm-1,1000cm-1和806cm-1.

    Abstract:

    The N-doped and N-undoped single crystal silicon under different conditions was investigated by means of Fourier Transfosm Infrared Spectroscope (FTIR) at room temperature (300K) and low temperature (SK). The experiments pointed out that the 1030cm-1, 1000cm-1 and 806cm-1 optical absorption lines are related to the nitrogenoxygen complex in nitrogen-doped CZ silicon.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

杨德仁,阙端麟.硅单晶中氮-氧复合体的红外吸收研究[J].红外与毫米波学报,1995,14(6):]. Yang Deren, Qne Duanlin. INFRARED ABSORPTION STUDY OF NITROGEN-OXYGEN COMPLEX IN SILICON[J]. J. Infrared Millim. Waves,1995,14(6).]

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