用椭圆偏振光谱法研究了热处理对射频辉光放电淀积的氢化非晶碳膜光学性质的影响。结果表明,500℃温度退火使氢化非晶碳膜的光学性质发生明显改变:折射率在短波端下降而在长波端上升,消光系数、吸收系数和反射率都随退火温度的增加而逐渐增加,而光学能隙则逐渐下降。对这些结果进行了初步讨论。
陈树光,林树汉.热处理对氢化非晶碳膜光学性质的影响[J].红外与毫米波学报,1987,6(5):].[J]. J. Infrared Millim. Waves,1987,6(5).]
