热壁外延是一项很有前途的薄膜生长技术。其主要特点是:薄膜在尽可能接近热力学平衡的条件下进行外延生长,材料源损失极少。在生长系统中,衬底与材料源之间的温度差,是衡量是否接近热力学平衡条件生长的一个重要标志。我们在接近热力学平衡的条件下,用热壁外延技术生长出了质量优良的CdTe[111]方向单晶薄膜,其质量比衬底有较大的