本文对铁电薄膜的光学性质的研究进展进行了详细的总结。与人们对铁电薄膜的电学性质的研究相比，人们对光学性质的研究较少。由于铁电薄及其无定形薄膜都具有许多优良的电学性质，因此对它们的光学性质研究也很有必要。光学手段具有非破坏性，通过这种手段可以获得薄膜的光学常数折射率和消光系数，从而进一步获得它们的禁带宽度。中红外透射可以表征铁电薄膜内部结构的相变过程。通过远红外手段，可以研究薄膜的内部微观机制，如晶格振动等。最后，阐述了铁电薄膜及其无定形薄膜光学性质研究的发展方向。