在二氧化硅衬底上制备磁光Ce:YIG薄膜用于磁光波导型器件
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TN244

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MAKING MAGNETO-OPTIC CE-SUBSTITUTED YIG THIN FILMS ON AMORPHOUS SILICA SUBSTRATE
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    对Ce1YIG磁光薄膜的制备过程及磁光性能进行了详细的研究.用RF磁控溅射法在二氧化硅的基片.上淀积Ce1YIG薄膜,再对此薄膜进行晶化处理,以得到具有磁光性能的Ce1YIG薄膜.本文讨论了晶化过程中,Ce1YIG薄膜微观结构的变化对其磁光性能的影响.结果表明:采用波长为630nm的可见光测量,薄膜的饱和法拉第旋转系数θF为0.8deg/μm.同时,晶化薄膜易磁化方向为平行于膜面方向,其居里温度点为220℃.所得Ge1YIG薄膜的参数表明:所制备的薄膜适宜于制备波导型磁光隔离器.

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王巍 兰中文 王豪才 姬海宁 秦跃利 高能武 孔祥栋.在二氧化硅衬底上制备磁光Ce:YIG薄膜用于磁光波导型器件[J].红外与毫米波学报,2004,23(4):276~280]. WANG Wei, LAN Zhong-Wen, WANG Hao-Cai, JI Hai-Ning QIN Yue-Li, GAO Neng-Wu, KONG Xiang-Dong . MAKING MAGNETO-OPTIC CE-SUBSTITUTED YIG THIN FILMS ON AMORPHOUS SILICA SUBSTRATE[J]. J. Infrared Millim. Waves,2004,23(4):276~280.]

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  • 最后修改日期:2003-04-25
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