+高级检索
首页 > 过刊浏览>2000年第19卷第5期 >338-342
PDF HTML阅读 XML下载 导出引用 引用提醒
模拟退火法在椭偏光谱数值反演中的应用
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

O484.41 O484.5

基金项目:


SIMULATED ANNEALING OPTIMIZATION ALGORITHM FOR INVERTING ELLIPSOMETRIC SPECTRA
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
    • |
  • 图/表
    • |
  • 访问统计
    • |
  • 参考文献
    • |
  • 相似文献
    • |
  • 引证文献
    • |
  • 资源附件
    • |
  • 文章评论
    摘要:

    将模拟退火（ＳＡ）法应用于椭偏光谱数值反演，以达到同时得到介质薄膜的厚度和光学常数谱，并对ＳＡ算法作了说明和改进，作为应用实例，计算了Ｓｉ衬底上的ＳｉＯ２薄膜和Ｂａ０．９Ｓｒ０．１ＴｉＯ３（ＢＳＴ）铁电薄膜的膜厚及光学常数谱，同时讨论了椭扁参数φ和△随膜厚及折射率变化的灵敏度。

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

阳生红 余招贤.模拟退火法在椭偏光谱数值反演中的应用[J].红外与毫米波学报,2000,19(5):338~342]. YANG Sheng-Hong, YU Zhao-Xian, LI Hui-Qiu, ZHANG Yue-Li, MO Dang. SIMULATED ANNEALING OPTIMIZATION ALGORITHM FOR INVERTING ELLIPSOMETRIC SPECTRA[J]. J. Infrared Millim. Waves,2000,19(5):338~342.]

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
您是第 位访问者
主管单位：中国科学院
主办单位：中国科学院上海技术物理研究所，中国光学学会
地址：上海市玉田路500号 电话：021-25051553
红外与毫米波学报 ® 2024 版权所有