碲镉汞液相外延薄膜生长技术与性能
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TN304.23 O484.1

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中国科学院资助项目,69425002,


GROWTH AND CHARACTERIZATION OF LIQUID-PHASE EPITAXIAL Hg 1-xCdxTe FILMS
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    用液相外延的方法在CdZnTe衬底上生长Hg1-xCdxTe材料,获得了表面形貌好,位错密度低,组份均匀的碲匐汞外延材料,生长工艺对材料的参数控制有较好重复性,外延材料经热处理后,材料的P型和N型电学参数都达到较好的水平,并具有良好的可重复性。

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引用本文

黄根生 陈新强.碲镉汞液相外延薄膜生长技术与性能[J].红外与毫米波学报,2000,19(2):145~148]. HUANG Gen-Sheng, CHEN Xin-Qiang, YANG Jian-Rong, HE Li. GROWTH AND CHARACTERIZATION OF LIQUID-PHASE EPITAXIAL Hg 1-xCdxTe FILMS[J]. J. Infrared Millim. Waves,2000,19(2):145~148.]

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