铁电液晶空间光调制器氢化非晶硅薄膜 p—i—n光敏层的研究
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TN304.12 O471

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    描述了氢化非晶硅/铁电液晶空间光调制器的结构和工作原理,并从器件的电学模型出发,着重讨论了整体器件对光敏层的特性要求,对a-Si:H薄膜p-i-n光敏层的制作和光电特性进行了研究。

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引用本文

朱振才,秦伟芳.铁电液晶空间光调制器氢化非晶硅薄膜 p—i—n光敏层的研究[J].红外与毫米波学报,1996,15(1):18~22].[J]. J. Infrared Millim. Waves,1996,15(1):18~22.]

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