高阻光敏CdS膜的制备与性质
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    采用真空蒸发工艺,用掺杂(Cu)敏化和H_2S热处理敏化两种制备方式获得了高阻光敏CdS膜,描述了CdS膜的性质及其与制备参数的关系。

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引用本文

陈智勇,计荣才,赵焕卿,章志呜.高阻光敏CdS膜的制备与性质[J].红外与毫米波学报,1987,6(2):].[J]. J. Infrared Millim. Waves,1987,6(2).]

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