掺铁铌酸锂反常光生伏打效应的研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:

中国科学院自然科学基金


Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    反常光生伏打效应(APVE)是指均匀铁电晶体在光照下出现的稳态短路电流与开路电压。它与半导体中的光生伏打效应不同,一方面表现在数值非常之大,例如开路电压可以达到10~3~10~4V,远远超过禁带宽度,另一方面它是在均匀晶体均匀光照条件下的体效应。反常光生伏打效应的研究,涉及到晶体中一种新的输运过程。比较自然的想法是认为

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

张齐年,华保盈,王庆生,陈建新.掺铁铌酸锂反常光生伏打效应的研究[J].红外与毫米波学报,1984,3(4):].[J]. J. Infrared Millim. Waves,1984,3(4).]

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期: