我们测量了不同条件下生长的α-Si∶H∶Cl材料的喇曼光谱和红外光谱。通过比较,进一步而且第一次用喇曼光谱证实了Si-Cl键振动带,并给出了其具体的识别,讨论了Si-Cl键的形成与样品制备条件的关系。α-Si∶H∶Cl样品是用辉光放电方法在H_2+SiH_4+SiCl_4混合气体中淀积在单晶硅衬底上的。膜厚1～3μm,典型的氯含量约3～7%。