本工作用电反射光谱技术研究了Si-KCl水溶液界面的行为。高阻N型硅片,均匀掺杂密度2×10~(14)c~m(-3),表面抛光成镜面,背面密封并引出电极。使用时即时配制的KCl电解液,浓度为0.1当量。偏置和调制(250Hz)场相对于一起浸在KCl电解液中的Pt片而施加。偏置电压可以连续扫描。光波波长范围取硅反射谱上的E_1结构((?)ω～3.4eV)。为了