ZnO压敏陶瓷界面态起源与本质的研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TN304.93

基金项目:

山西大学科研基金


Research on Origin and Essence of ZnO Varistor Interface States
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    以双肖特基势垒模型为基础,分析了ZnO压敏陶瓷中界面态的起源及本质.分析结果认为,在晶界处,大离子半径的Bi和Ba偏析至界面,是造成界面态密度N.的主要原因;氧以化学吸附氧的形式存在,对提高界面态密度也起关键作用.因此,ZnO压敏陶瓷中的界面态主要来源于非本征界面态.对界面态本质讨论的结果认为,应区分界面态密度N.及有效界面态密度ns,在做上述区分后,导电机理的解释及势垒高度Φb的计算将更趋于合理化.

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

孟继轲,李莉. ZnO压敏陶瓷界面态起源与本质的研究[J].红外与毫米波学报,2008,27(5):37~40]. MENG Ji-ke, LI Li. Research on Origin and Essence of ZnO Varistor Interface States[J]. J. Infrared Millim. Waves,2008,27(5):37~40.]

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码