热丝化学气相沉积法在CH4/H2混合气体中低温生长超薄纳米金刚石膜
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O484.1

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The project supported by the Natural Science Foundation of Zhejiang Province, China (No. 597083 )


LOW-TEMPERATURE GROWTH OF ULTRA-THIN NANO-CRYSTALLINE DIAMOND FILMS BY HFCVD IN A CH4/H2 MIXTURE
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    用热丝化学气相沉积方法研究了低温(~550℃)和低反应气压(~7 Torr)下硅片上金刚石膜的成核和生长.成核过程中采用2.5%的CH4浓度,在经充分超声波预处理的硅片上获得了高达1.5×1011cm.的成核密度.随CH4浓度的增加所成膜中的金刚石晶粒尺寸由亚微米转变到纳米级.成功合成了表面粗糙度小于4nm、超薄(厚度小于500nm)和晶粒尺寸小于50nm的纳米金刚石膜.膜与衬底结合牢固.膜从可见光至红外的光吸收系数小于2×104cm-1.用我们常规的HFCVD技术,在低温度和低压下可以生长出表面光滑超薄的纳米金刚石膜.

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引用本文

张衡 郝天亮 石成儒 韩高荣.热丝化学气相沉积法在CH4/H2混合气体中低温生长超薄纳米金刚石膜[J].红外与毫米波学报,2006,25(2):81~85]. ZHANG Heng~,HAO Tian-Liang~. LOW-TEMPERATURE GROWTH OF ULTRA-THIN NANO-CRYSTALLINE DIAMOND FILMS BY HFCVD IN A CH4/H2 MIXTURE[J]. J. Infrared Millim. Waves,2006,25(2):81~85.]

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  • 收稿日期:2005-10-08
  • 最后修改日期:2005-12-08
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