不同组分La-Ni-O薄膜的红外光谱特性研究
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O484.41

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上海市科研计划资助项目 (0 3 5 2NM0 77)


STUDY ON THE COMPOSITION DEPENDENCE OF IR SPECTRA ON La-Ni-O THIN FILMS
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    采用射频磁控溅射和组合靶在260℃的(111)Si上制备了不同Ni、La含量比的La-Ni-O薄膜.通过拟合2~12.5μm波长范围的反射和透射光谱,得出了薄膜在此区间的折射率和消光系数.薄膜的折射率随波长的增长均呈现单调增大的变化趋势,并且随组分的变化,此趋势没有大的变化.而消光系数的邑散却对薄膜的组分具有很大的依赖性.实验结果同时表明,在La含量较高时,薄膜为无定型结构,并且具有较大的电阻率.当Ni、La含量比大于1:1.44后,薄膜具有(100)择优取向的赝立方钙钛矿结构,同时具有金属导电性.薄膜的晶面间距、电导率、折射率和消光系数随着Ni含量的增加具有相似的变化规律.并在Ni:La=1:1时,晶面问距和电阻率达到最小值.对所有实验现象,文中从LaNiO3薄膜的导电机理出发给出了理论分析,并取得了比较一致 的结果.

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引用本文

赵强 胡志高 黄志明 王根水 褚君浩.不同组分La-Ni-O薄膜的红外光谱特性研究[J].红外与毫米波学报,2004,23(2):95~98]. ZHAO Qiang, HU Zhi Gao, HUANG Zhi Ming, WANG Gen Shui, CHU Jun Hao . STUDY ON THE COMPOSITION DEPENDENCE OF IR SPECTRA ON La-Ni-O THIN FILMS[J]. J. Infrared Millim. Waves,2004,23(2):95~98.]

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  • 最后修改日期:2003-11-11
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