TN213
用射频磁控反应溅射在石英玻璃和硅片上沉积氧化钒薄膜 .利用X射线衍射 ,X射线光电子谱 ,原子力显微镜 ,分光光度计和电阻测量手段对沉积薄膜结构、形貌和性能进行了测试 .结果表明 ,沉积薄膜的电阻温度系数大于 1.8% /℃ ,方块电阻为 2 2± 5kΩ/□ .
许旻 崔敬忠 贺德衍.微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究[J].红外与毫米波学报,2003,22(6):419~422]. XU Min ) CUI Jing-Zhong ) HE De-Yan ). DEPOSITION PROCESS STUDY OF VANADIUM OXIDE THIN FILMS FOR MICROBOLOMETER[J]. J. Infrared Millim. Waves,2003,22(6):419~422.]
