溅射气压对Si/Ge多层膜结构光学常数的影响
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O484.43 TN47

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EFFECTS SPUTTERING Ar PRESSURE ON THE OPTICAL CONSTANTS OF Si/Ge MULTILAYERS
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    采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数,测量能量范围为1.5-4.5eV,分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响,实验结果表明,在低能区域,随压强的增加,多层膜结构的所有光学常数均有不同程度的增加,但在高能区域,溅射气压对光学常数的影响不再明显,多层膜结构的复介电常数的实部和虚部及折射率n的峰位随压强增大而向低能方向位移,多层膜结构的消光系数k的峰位随压强的变化很小,但其峰值随压强的增加而增加。

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引用本文

张晋敏 杨宇 等.溅射气压对Si/Ge多层膜结构光学常数的影响[J].红外与毫米波学报,2003,22(1):77~79]. ZHANG Jin-Min ) GAO Xiao-Yong ) YANG Yu ) CHEN Liang-Yao ). EFFECTS SPUTTERING Ar PRESSURE ON THE OPTICAL CONSTANTS OF Si/Ge MULTILAYERS[J]. J. Infrared Millim. Waves,2003,22(1):77~79.]

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  • 最后修改日期:2002-08-11
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