采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪，测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数，测量能量范围为1．5－4．5eV，分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响，实验结果表明，在低能区域，随压强的增加，多层膜结构的所有光学常数均有不同程度的增加，但在高能区域，溅射气压对光学常数的影响不再明显，多层膜结构的复介电常数的实部和虚部及折射率n的峰位随压强增大而向低能方向位移，多层膜结构的消光系数k的峰位随压强的变化很小，但其峰值随压强的增加而增加。
张晋敏 杨宇 等.溅射气压对Si／Ge多层膜结构光学常数的影响[J].红外与毫米波学报,2003,22(1):77~79]. ZHANG Jin-Min ) GAO Xiao-Yong ) YANG Yu ) CHEN Liang-Yao ). EFFECTS SPUTTERING Ar PRESSURE ON THE OPTICAL CONSTANTS OF Si/Ge MULTILAYERS[J]. J. Infrared Millim. Waves,2003,22(1):77~79.]
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