分子束外延HgCdTe表面缺陷研究
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O484.1

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国家自然科学基金 (编号 6 942 5 0 0 2 )~~


SURFACE DEFECTS ON MBE GROWN HgCdTe
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    采用GaAs作为衬底研究了HgCdTe MBE薄膜的表面缺陷,借助SEM分析了不同缺陷的成核机制,确定了获得良好表面所需的最佳生长条件。发现HgCdTe外延生长条件、衬底表面处理等因素与外延层表面各种缺陷有关,获得的外延层表面缺陷(尺寸大于2μm)平均密度为300cm^-2,筛选合格率为65%。

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引用本文

陈路 巫艳 等.分子束外延HgCdTe表面缺陷研究[J].红外与毫米波学报,2001,20(6):406~410]. CHEN Lu WU Yan YU Mei Fang WANG Shan Li QIAO Yi Min HE Li. SURFACE DEFECTS ON MBE GROWN HgCdTe[J]. J. Infrared Millim. Waves,2001,20(6):406~410.]

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  • 最后修改日期:2000-09-06
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