TN211
新材料领域项目，，
基于等效媒质理论，对周期性浮雕结构的抗反射特性进行了分析和研究。给出了二维对称的抗反射浮雕结构等效光学参数的估算方法。提出了基于最小特征尺寸考虑的脊基和隙空的设计概念。利用离子束刻蚀工艺技术，在Si片上制备了一种两维红外抗反射浮雕图案。测试结果表明，这种表面结构像单层抗反射膜一样，具有很好的增透效果，表面结构的等效折射率相当于镀层材料折射率，而刻蚀深度则相当于镀层的1／4波长厚度。
陈思乡 易新建 曾延安 陈四海.亚波长浮雕结构的红外抗反射研究[J].红外与毫米波学报,2000,19(6):471~474]. CHEN Si-Xiang, YI Xin-Jian, ZENG Yan-An, CHEN Si-Hai. BINARY SUBWAVELENGTH RELIEF STRUCTURES FOR INFRARED ANTIREFLECTION[J]. J. Infrared Millim. Waves,2000,19(6):471~474.]
