+高级检索
首页 > 过刊浏览>2000年第19卷第4期 >266-268
PDF HTML阅读 XML下载 导出引用 引用提醒
GexC1—x薄膜在红外增透保护模系设计和制备中的应用
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TN213

基金项目:

航空基金，93G53120，


APPLICATION OF GexC1-xFILMS TO DESIGN AND DEPOSITION OF INFRARED ANTIREFLECTION AND PROTECTION FILMS
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
    • |
  • 图/表
    • |
  • 访问统计
    • |
  • 参考文献
    • |
  • 相似文献
    • |
  • 引证文献
    • |
  • 资源附件
    • |
  • 文章评论
    摘要:

    用磁控反应溅射（ＲＳ）法制备出ＧｅｘＣ１－ｘ薄膜，它的折射率可在１．６～４．０之间变化，设计出没厚度的ＧｅｘＣ１－ｘ均匀增透膜 非均匀增透膜系，并在ＺｎＳ基片上制备出ＧｅｘＣ１－ｘ均匀增膜系，设计结果表明，均匀膜系实现某－波段范围内增透，非均匀膜系能实现宽波段增透；当厚度增加时，均匀增透膜系的透过率曲线变得急剧振荡，非均匀膜系的透过率曲线变得更为平滑，且向长波段扩展，实现结果表明，在８～１１．５μ

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

宋建全 刘正常. GexC1—x薄膜在红外增透保护模系设计和制备中的应用[J].红外与毫米波学报,2000,19(4):266~268]. SONG Jian-Quan, LIU Zheng-Tang, YU Zhong-Qi, GENG Dong-Sheng, ZHENG Xiu-Lin. APPLICATION OF GexC1-xFILMS TO DESIGN AND DEPOSITION OF INFRARED ANTIREFLECTION AND PROTECTION FILMS[J]. J. Infrared Millim. Waves,2000,19(4):266~268.]

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码
您是第 位访问者
主管单位：中国科学院
主办单位：中国科学院上海技术物理研究所，中国光学学会
地址：上海市玉田路500号 电话：021-25051553
红外与毫米波学报 ® 2024 版权所有