杂质对生长SiGe/Si量子阱发光材料的影响
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TN204

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IMPURITY INFLUENCE ON THE PHOTOLUMINESCENCE FROM SiGe/Si QUANTUM WELL STRUCTURES
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    发现Si源和Ge源中的深能级杂质是影响SiGe/Si量子阱带边激子发光的主要因素,研究了在低阻衬底上外延,在量子阱中重掺Sb或顶层中重掺B都将减弱甚至淬灭量子阱的带边激子发光。

    Abstract:

    Deep level impurities in the background were found to be vital for the luminescence of QW,grown by solid source Si MBE.The samples grown on undoped and heavily doped substrates,i.e.Sb-doped in QW and B-doped in cap layers were studied.Impurity contamination causes deep levels,which severely reduces radiative efficiency of SiGe/Si QWs.

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引用本文

杨宇 刘晓晗.杂质对生长SiGe/Si量子阱发光材料的影响[J].红外与毫米波学报,1995,14(3):175~181]. Yang Yu, Liu Xiaohan, Lu Xuekun, Huang Daming, Jiang Zuimin, Gong Dawei, Wang Xun. IMPURITY INFLUENCE ON THE PHOTOLUMINESCENCE FROM SiGe/Si QUANTUM WELL STRUCTURES[J]. J. Infrared Millim. Waves,1995,14(3):175~181.]

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