于振瑞,孙仲林
总结了几种能大幅度提高沉积速率的方法。分别给出了这几种方法的沉积速率,分析了它们能提高沉积速率的原因,以及所制备的a-Si:H膜的光电性质。
于振瑞,孙仲林. a-Si:H合金膜的高速制备法[J].红外与毫米波学报,1987,6(3):].[J]. J. Infrared Millim. Waves,1987,6(3).]
