Au掺杂碲镉汞气相外延生长及电学性能
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中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室 上海 200083,中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室 上海 200083,中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室 上海 200083

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国家自然科学基金项目(面上项目,重点项目,重大项目);中国科学院知识创新项目


Growth of Au-doped Hg1-xCdxTe epitaxial crystals and its Raman spectrum
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Key Laboratory of Infrared Imaging Materials and Detectors, Shanghai Institute of Technical,Key Laboratory of Infrared Imaging Materials and Detectors, Shanghai Institute of Technical,Key Laboratory of Infrared Imaging Materials and Detectors, Shanghai Institute of Technical

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    摘要:

    采用气相外延技术生长Au掺杂的Hg1-xCdxTe薄膜材料, 利用范德堡法对薄膜材料进行电学性能表征.通过变温霍尔测量, 分析了常规Au掺杂p型薄膜的霍尔系数和霍尔迁移率随温度的变化, 利用二次离子质谱(SIMS)分析薄膜中Au的纵向分布趋势.讨论了三种反常p型薄膜的霍尔系数和霍尔迁移率随温度的变化.通过变磁场霍尔测量, 分析了具有反型层Hg1-xCdxTe薄膜的迁移率谱, 证实了由于表面电子、体电子以及体空穴混合导电造成的反常霍尔性能.

    Abstract:

    Au-doped Hg1-xCdx Te epitaxial layers were grown by vapor phase epitaxial method. The electrical properties of Hg1-xCdxTe epitaxial layers were investigated by Hall measurement. Profile of Au in Hg1-xCdx Te epitaxial layers was revealed by Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) method. Hall coefficient and Hall mobility of three abnormal P type samples were discussed. Moreover, variable-magnetic-field Hall measurement was performed on Hg1-xCdx Te with antitype epitaxial layer. Mobility spectrum analysis was employed to verify surface electrons, bulk electrons and bulk holes mixed conduction in Hg1-xCdx Te epitaxial layers.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王 仍,焦翠灵,徐国庆,张莉萍,张可锋,陆液,杜云辰,邵秀华,林杏潮,李向阳. Au掺杂碲镉汞气相外延生长及电学性能[J].红外与毫米波学报,2015,34(4):432~436]. WANG Reng, JIAO Cui-Ling, XU Guo-Qing, ZHANG Li-Ping, ZHANG Ke-Feng, LU Ye, DU Yun-Chen, SHAO Xiu-Hua, LIN Xing-Chao, LI Xiang-Yang. Growth of Au-doped Hg1-xCdxTe epitaxial crystals and its Raman spectrum[J]. J. Infrared Millim. Waves,2015,34(4):432~436.]

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  • 收稿日期:2014-06-13
  • 最后修改日期:2015-05-27
  • 录用日期:2014-10-17
  • 在线发布日期: 2015-09-29
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